Евросоюз запустил производство чипов по технологии 2 нм
В Европе запустили производственную линию микросхем с техпроцессом менее 2 нм. Для этого приобрели установку для EUV-литографии с высокой числовой апертурой у компании ASML.
На данный момент в мировой индустрии массовое производство передовых процессоров ведётся по технологическим нормам 3–5 нм. Однако ведущие производители, такие как TSMC, Intel и Samsung, осваивают и внедряют технологии 2 нм.
Нормы 7–28 нм широко используются для производства различных полупроводниковых компонентов, включая чипы для автомобилей, интернета вещей и потребительской электроники.
Старые нормы 90 нм и более «крупные» применяются для специализированной электроники, силовой техники, датчиков и в других областях, где не требуется высокая плотность транзисторов.
Таким образом, Европейский союз официально запустил NanoIC — крупнейшую пилотную линию, разработанную в рамках программы Chips Act. Линию установили в исследовательском кампусе IMEC в Левене (Бельгия). Его цель — ускорить переход от лабораторных экспериментов к производству, близкому к промышленному, и укрепить позиции континента в глобальной технологической гонке.
Масштаб инвестиций стал одним из крупнейших в истории европейского сектора микроэлектроники. Общий бюджет предприятия достигает 2,5 миллиарда евро. Из этой суммы 700 миллионов евро поступило из бюджета Европейской комиссии, еще 700 миллионов евро предоставлено национальными и региональными правительствами, а оставшаяся часть — от промышленных партнеров во главе с компанией ASML, мировым лидером в области литографии.
NanoIC должен по задумке создателей стать центром разработки и тестирования технологий, необходимых для систем следующего поколения: решений для искусственного интеллекта, автономного транспорта, цифровой медицины и связи 6G (шестого поколения). Ключевая цель — расширить границы миниатюризации за пределы 2 нанометров, создавая процессоры, сопоставимые с разработками мировых лидеров, таких как TSMC и Intel.
Сердцем и символом этих амбиций стала установка самой современной в Европе системы EUV-литографии High NA от ASML. Это устройство входит в число самых редких и сложных производственных линий в мире. Ее появление в Левене сделало IMEC одним из элитных центров с инфраструктурой, которая может определить будущее отрасли.
Однако стоит помнить, что NanoIC — это не производственная линия для массового выпуска, а инфраструктура-«мост» между исследованиями и промышленностью. Она предназначена для тестирования новых концепций, материалов и технологических процессов в условиях, максимально приближенных к заводским. Линия позволяет стартапам, академическим группам, малым, средним и крупным компаниям проверять конструкции микросхем перед принятием решения о масштабном производстве.
Проект носит общеевропейский характер: помимо бельгийского IMEC, в нём участвуют институты CEA-Leti (Франция), Фраунгофера (Германия), VTT (Финляндия), CSSNT (Румыния) и Национальный институт Тиндалла (Ирландия). Их общая цель — создать устойчивые компетенции в рамках ЕС, сократить путь от исследований к промышленности, а также сохранить и привлечь в Европу высококвалифицированных специалистов.
NanoIC, кстати, является частью более масштабной стратегии: это одна из пяти пилотных линий, разрабатываемых в рамках Chips Act, совокупные инвестиции в которые составляют 3,7 миллиарда евро.
Ранее мы писали, что в Минске на базе ОАО “Планар” 30 января запустили Центр спецтехнологического оборудования для производства фотошаблонов и микрооптики, в том числе, микроэлектроники на 90 нм.
Президент Беларуси Александр Лукашенко, который принимал участие в церемонии запуска нового производственного центра, заявил, что для этой технологии “пришло время” и посулил “Планару” “большие деньги”.
В Минске открыли производство микроэлектроники на 90 нм — «Наше время пришло»